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ABB OA-ICOS? GLA231

ABB OA-ICOS? GLA231

ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜(OAICOS)技術,能夠高精度、高靈敏度地測量HF、HCL、NH3及H2O等氣體,適用于半導體晶圓廠的工藝流程檢測、氣相沉積室監(jiān)測及FOUP監(jiān)測。其多氣體配置、亞ppb級濃度測量能力及優(yōu)化的數(shù)據(jù)處理···...
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詳情介紹

ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜(OAICOS)技術,能夠高精度、高靈敏度地測量HF、HCL、NH3及H2O等氣體,適用于半導體晶圓廠的工藝流程檢測、氣相沉積室監(jiān)測及FOUP監(jiān)測。其多氣體配置、亞ppb級濃度測量能力及優(yōu)化的數(shù)據(jù)處理使其具備高性能和高安全性,支持Modbus TCP輸出和遠程控制功能,操作簡便,維護需求低。


ABB OA-ICOS GLA231在線ICOS方法酸堿分析儀(離軸激光)

 

功能和優(yōu)勢


? 支持 HF、HCI、NH3 的單氣體或多氣體配置

? 提供高精度、準確的 H2O 測量結(jié)果

? 提供 0-5V 和 4-20 mA 模擬輸出(標配),可選Modbus TCP

? 優(yōu)化數(shù)據(jù)處理,在測量亞 ppb 級別濃度時,實現(xiàn)優(yōu)異性能

? 提供觸控數(shù)字顯示屏,顯示氣體濃度和分析儀的狀態(tài)

? 提供主要密碼保護,確保分析儀和數(shù)據(jù)安全

? 優(yōu)化的零氣性能,確??煽康卮_認過程事件

? 提供可定制的校準套件和性能認證文件包

? 堅固耐用;所需的維護工作少且花費較低

? 可輕松更換長期受到污染的部件(過濾器)和正常老化部件(泵隔膜)

? 服務工程師可現(xiàn)場診斷并更換其他大多數(shù)部件

? 鏡面清潔可現(xiàn)場進行,無需在工廠費時維修

 

技術參數(shù)

GLA231-EAA

項目(氣體)NH?H?O
精度 (1σ)<1ppb (1秒)
<0.3 ppb (10秒)
<0.1 ppb (100秒)
<50 ppm (1秒)
<20 ppm (10秒)
<10 ppm (100秒)
檢測限 (LOD)0.3 ppb (100秒)50 ppm (100秒)
準確性 *±0.3 ppb
或讀數(shù)的5%,以較高者為準
>7,000 ppm
= 1% FSD
不同分析儀的結(jié)果差異
(相對于平均值,10秒)
±0.4 ppb
或讀數(shù)的5%,以較高者為準
≤1000 ppm
= ±10%
線性測量范圍高達 10,000 ppb高達 30,000 ppm
樣品流量 (ppm)1.4-2.4
響應時間 (T??, T??)10秒

GLA231-HFHC & HF

項目(氣體)HCl**HFH?O
精度 (1σ)<0.3 ppb (1秒)
<0.1 ppb (10秒)
<0.035 ppb (100秒)
<0.1 ppb (1秒)
<0.05 ppb (10秒)
<0.025 ppb (100秒)
<25 ppm (1秒)
<10 ppm (10秒)
<5 ppm (100秒)
檢測限 (LOD)0.1 ppb (100秒)0.075 ppm (100秒)25 ppm (100秒)
準確性 *±0.15 ppb
或讀數(shù)的5%,以較高者為準
±0.1 ppb
或讀數(shù)的5%,以較高者為準

>7000 ppm

= 1% FSD

不同分析儀的結(jié)果差異
(相對于平均值,10秒)
±0.2 ppb
或讀數(shù)的5%,以較高者為準
±0.2 ppb
或讀數(shù)的5%,以較高者為準
≤ 1000 ppm
= ±10%
線性測量范圍高達 2,000 ppb高達 2,000 ppb高達 30,000 ppm
樣品流量 (ppm)1.1-1.9

響應時間 (T??, T??)25秒25秒

* 適用于典型的半導體晶圓廠,在設定的19°C和23°C溫度范圍內(nèi),在至少1小時內(nèi),變化范圍在±1°C。
** HCl測量僅適用于GLA231-HFHC型號的分析儀。

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